Samsung、EUVリソグラフィ採用の7nm FinFET技術を公表
タレコミ by Anonymous Coward
あるAnonymous Coward 曰く、
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韓国のSamsung Electronicsは、微細加工にEUV(Extreme Ultra-Violet:極端紫外線)リソグラフィを採用した7nm世代のFinFET技術を開発し、その概要を国際学会「VLSI技術シンポジウム」で6月7日に公表した(講演番号T6-1)。
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